背景(反射)温度补偿
发射率较低的测量目标可以反射来自附近的背景能量,这部分额外的反射能量会被添加到测量目标自身发射的能量中,从而使热像仪读数变得不准确。
部分情况下,位于测量目标附近的物体(设备、或者其他热源)的温度会比测量目标的温度高出很多。因此,在实际使用中,需要根据现场情况修正“背景温度补偿”等参数来消除这部分干扰。
有时背景温度补偿也被称为“反射温度补偿”。
从斯蒂芬- 玻尔兹曼扩展公式可以看出:
对于发射率较高的目标(通常为非金属物体),背景温度补偿设置不准确的影响会比较小,甚至小于0.1℃。
对于发射率较低的目标(通常为光亮金属表面,或背景温度较高的情况,必须准确设置背景温度补偿,否则会引起较大误差。
斯蒂芬- 玻尔兹曼扩展公式:
Q =σ× ε × T4目标 + (σ× (1- ε) × T4 背景 )
反射 发射
Q :热像仪接收的总能量
σ:斯蒂芬- 玻尔兹曼常量
ε:发射率
T :绝对温标
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